华人科学家发现迄今为止“最佳半导体材料”
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【摘要】7月22日,来自美国麻省理工学院、休斯顿大学和其它机构的科研团队发现了一种名为“立方砷化硼”的材料,它既能为电子和空穴提供高迁移率,又有优良的导电率,而且还具有极高的
7月22日,来自美国麻省理工学院、休斯顿大学和其它机构的科研团队发现了一种名为“立方砷化硼”的材料,它既能为电子和空穴提供高迁移率,又有优良的导电率,而且还具有极高的导热特性。科学家表示,这是迄今为止发现的最好的半导体材料,或许放眼未来也会是最好的那个。相关成果已经发表在近期的《科学》杂志上,作者栏中包括多位华人,例如麻省理工学院机械工程教授陈刚、中科院任志峰(休斯敦大学)等。(IT之家)
文章来源:《机械工程材料》 网址: http://www.jxgcclzz.cn/zonghexinwen/2022/0725/658.html
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